| 表 題 |
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プラズマ滅菌・殺菌[5] プラズマ滅菌に於けるプラズマ源の装置と特徴について |
| 著 者 |
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白藤 立（名古屋大学大学院工学研究科）,齋藤永宏（名古屋大学エコトピア科学研究所）,高井 治（名古屋大学大学院工学研究科） |
| 掲 載 |
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防菌防黴,Vol.38,No.10,pp.679－685（2010） |
材料プロセスのためのプラズマ源には多種多様なものがある。こうしたプラズマ源は,主として薄膜堆積やエッチングのような半導体デバイス製造プロセスのため適用されてきており,そのほとんどの場合において,減圧条件下で利用することを想定したものとなっている。減圧プラズマの主な利点は,低温で対象物を処理することができるという点である。この利点を活かすために,従来から高温状態が利用されていた滅菌プロセスにおいて試行されるようになり,より高い滅菌効率を得るために,多くの種類の低圧プラズマ源が試されてきた。本稿では,現在までに滅菌応用に適用された低圧プラズマ源について紹介する。一方,近年,真空排気装置を必要としない大気圧プラズマや液体関与プラズマがプラズマ滅菌の新しい時代を拓こうとしており,それらのうちのいくつかについても紹介する。
| Key words |
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Plasma Sources（プラズマ源）/Plasma Sterilization（プラズマ滅菌）. |
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